要素技術

 
 
　【スパッタリング技術】
　　真空中に不活性ガス（主にArガス）を導入しながら基板とターゲット（成膜
　　させる物質ITO等）間に直流高電圧を印加し、イオン化したArをターゲットに
　　衝突させてはじき飛ばされたターゲット物質を基板に成膜させる方法です。
 

 
　
　【フォトリソグラフィ技術】
　　写真現像技術を応用した微細パターン作成技術です。
　　ガラス基板などの上に、レジストという感光性の液体を薄く塗布し紫外線を
　　照射すると光が照射された部分が変色します。
　　その後、写真と同様に「現像液」と呼ばれる液体に通すと所定のパターンが
　　基板上に作成されます。
 
　
　【エッチング技術】
　　写真的技術を利用した精密加工技術。焼付け現像し、フォトレジスト膜のない
　　部分をエッチングにより取り除く方法です。